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PG电子模拟器安集科技申请化学机械抛光液及其用途专利能提高CoTEOS的选择比并减少晶圆表面划伤缺陷数量
发布时间:2024-07-10 02:03 来源:网络

  PG电子模拟器金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN8.8,申请日期为2022年12月。

  专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒、研磨颗粒稳定剂、腐蚀、络合剂、氧化剂、pH调节剂和水。本发明中的一种化学机械抛光液,通过在抛光液中加入合适研磨颗粒稳定剂,抑制TEOS的去除速率,并提高Co/TEOS的选择比,同时减少晶圆表面划伤缺陷数量。